研究会一覧
MEETINGS
第9回研究会
平成2年4月27日(金) 東京工業大学
| プログラム |
| パルスプラズマCVD法によるSi系アモルファス半導体の形成 |
| (株)富士電機総合研究所電子デバイス研究所 吉田隆、市川幸美、酒井博 |
| プラズマ技術と接着 |
| (株)ブリヂストン研究開発第二本部 内藤壽夫、吉川雅人、草野行弘、斉藤伸二、秋山節夫 |
| 熱プラズマによるダイヤモンド膜の合成 |
| 科学技術庁無機材質研究所 松本精一郎 |
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| プログラム |
| パルスプラズマCVD法によるSi系アモルファス半導体の形成 |
| (株)富士電機総合研究所電子デバイス研究所 吉田隆、市川幸美、酒井博 |
| プラズマ技術と接着 |
| (株)ブリヂストン研究開発第二本部 内藤壽夫、吉川雅人、草野行弘、斉藤伸二、秋山節夫 |
| 熱プラズマによるダイヤモンド膜の合成 |
| 科学技術庁無機材質研究所 松本精一郎 |