研究会一覧
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第33回研究会 窒化炭素系薄膜の形成と評価
平成8年11月15日(金) 弘済会館
| プログラム |
| 窒化炭素薄膜概論およびプラズマプロセスによる形成 |
| 名古屋大学工学部 高井治、瀧優介 |
| イオン蒸着薄膜形成法による窒化炭素薄膜の形成 |
| 日新電機(株)先端技術研究開発部 緒方潔 |
| レーザーアプレーションおよびイオンビーム照射による窒化炭素薄膜の形成 |
| 物質工学工業技術研究所極限反応部 古賀義紀 |
| CVDによるBC2N薄膜の形成と評価 |
| 東芝基礎研究所 伊藤聡、渡辺美代子、野崎華恵、水島公一 無機材質研究所 佐々木高義 |
| 窒素ドープによる導電性DLC膜の作成 |
| Opto Films／Samco，Sunnyvale ピーター・ウッド、テッド・ワイデブン Samco International，Inc 立田利明、辻理 |
| 窒素添加気相成長ダイヤモンド薄膜からの電子放出 |
| 東海大学工学部 岡野健、山田貴寿 |