研究会一覧
MEETINGS
第40回研究会 ULSlプロセスにおけるプラズマ技術の最近の進展
平成10年9月25日(金) 日立製作所
| プログラム |
| 300mmのドライエッチング技術動向 |
| (株)半導体先端テクノロジーズ 岸本喜芳、古宮秀雄 |
| 高密度マイクロ波プラズマを用いたゲート絶縁膜形成技術 |
| 東北大学大学院工学研究科 平山昌樹、海原竜、関根克行、斉藤祐司 東北大学未来科学技術共同研究センター 大見忠弘 |
| 酸化膜エッチングにおける基板入射イオンのエネルギーとフラックス |
| ASETプラズマ研 彦坂幸信、林久貴、森下敏、辰巳哲也、関根誠 日本真空技術(株) 坪井秀夫、遠藤光広、水谷直樹 |
| プラズマドーピング技術の進展 |
| 松下電器産業(株) 水野文二、中山一郎、高瀬道彦 |
| 学振153委員会委員の研究紹介 |
| 鯉沼秀臣(東京工業大学応用セラミックス研究所) 明石和夫(東京理科大学理工学部) 堀池靖浩(東京大学大学院工学系研究科) 高井治(名古屋大学大学院工学系研究科) 吉田春彦(東洋大学大学院工学研究科) |