研究会一覧
MEETINGS
第48回研究会 次世代ULSIプロセスへのプラズマの挑戦
平成12年12月21日(木) 弘済会館
| プログラム |
| ECRスパッタによる高誘電薄膜の低温形成 |
| NTT通信エネルギー研究所 小野俊郎、斎藤國夫 |
| Cu CVD技術 |
| 九州大学大学院システム情報科学研究院 電子デバイス工学 白谷正治 |
| NLDプラズマによるLow－kエッチング |
| 日本真空技術(株)半導体研究所 森川泰宏、陳魂、安波慎児、林俊雄、内田岱二郎 |
| UHF－ECRプラズマによる有機SOGエッチングの基本特性 |
| 日立製作所中央研究所 横川賢悦、伊澤勝、田地新一 |
| 日立テクノ 吉田剛 |
| 日立製作所半導体製造装置グループ 森本未知数、川原宣弘 日立超LSIシステムズ 前川厚志 |
| Viaエッチング後のCu表面のドライクリーニング |
| 東京大学大学院工学系研究科 小川洋輝、谷口和丈、堀池靖浩 |