研究会一覧
MEETINGS
第104回研究会 ドライ vs.ウェット
平成24年2月21日(火) 弘済会館
| プログラム | |
| 13:00〜13:05 | 委員長挨拶 |
| 日本学術振興会第153委員会 委員長 松田 彰久 | |
| 13:05～13:50 | ドライプロセスとウェットプロセス～機能性フィルムを中心として |
| 凸版印刷(株)・製造統括本部製造技術センタｰ 宇山 晴夫 | |
| 13:50～14:35 | マグネトロンプラズマを用いたSiウェハ再生技術の実用化 |
| 九州電通(株) 山田 浩 | |
| 14:35～15:20 | ウェットコｰティングプロセス |
| 尾池工業(株) 桑本 伸介 | |
| 15:20～15:35 | 休憩 |
| 15:35～16:20 | RAS技術の進展,光学からの応用展開 |
| (株)シンクロン・R&D センタｰ 塩野 一郎 | |
| 16:20～17:10 | スパッタエッチングによるファインワイヤのブラスめっき除去技術の開発 ～強酸・強アルカリウエットプロセスから環境にやさしいプラズマドライプロセスへ～ |
| 長崎大学工学研究科 藤山 寛 | |
| 17:10 | 閉会 |
| 17:30～19:30 | 交流会 |