委員紹介

MEMBERS

長崎大学工学研究科 グリーンシステム創成科学専攻

plasmanagasaki-u.ac.jp

1. 各種反応プロセス用プラズマ源の開発
   特殊構造基板（光ファイバー，環状ドリル，医療用細管）へのスパッタコーティング用マグネトロンプラズマ源の開発，走査型同軸ECRプラズマ源の開発，セカンドハーモニックECRプラズマの基礎研究，磁界中マイクロ波による低気圧マイクロプラズマ源の開発
2. 磁化プラズマ化学的気相堆積（CVD）プロセス
   大面積均一アモルファスシリコン薄膜の作成，ダストフリー大面積均一プラズマCVD法の開発
3. 磁化プラズマ物理的気相堆積（PVD）プロセス
   マルチターゲット型大面積スパッタ用マグネトロンプラズマ，プラズマ－イオンビーム複合プロセスによる炭化窒素膜形成，マグネトロンパルスプラズマを用いた長細管内壁スパッタコーティング法，酸化物(ITO, ZnO, MgO)薄膜の反応性スパッタリング，高分子フィルムへの大面積均一低温プラズマプロセスの量産化技術
4. ダスティプラズマ輸送現象
   磁化ダスティプラズマ中の微粒子挙動に関する研究
5. 水晶振動子のプラズマエッチング
   新マグネトロンプラズマによる超高周波駆動用水晶振動子のエッチング
6. プラズマと固体表面の相互作用
   基板表面磁界制御による磁性薄膜の配向性制御法，プラズマ誘起サブサーフェス，多重内部反射赤外吸収法によるプラズマプロセスのその場観測，DLC薄膜コーティングとプラズマ表面処理技術の応用による医療器材表面の他機能化技術

1. Inner coating of long-narrow tube by plasma sputtering Surface and Coatings Technology, 131, 278-283. (2000)
2. Dynamics of silicon particles in DC silane plasmas transported by a modulated magnetic field Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers, 33, 4216-4220. (1994)
3. Particle formation and a-Si:H film deposition in narrow-gap RF plasma CVD Thin Solid Films, 345, 80-84. (1999)
4. Structural and bonding properties of carbon nitride films prepared by dc magnetron sputtering Thin Solid Films, 345, 18-22.. (1999)
5. Application of the Child-Langmuir law to magnetron discharge plasmas IEEE Transactions on Plasma Science, 22, 442-448. (1994)
6. Profile control of SiH radicals by cross magnetic field in plasma processing Applied Physics Letters, 50, 1322-1324.  (1987) .

特　許：

非晶質薄膜形成装置（2033399，1970980），内周面円筒状体のコーティング方法（2706546），スパッタ装置（1922426），管体内周面に膜形成する方法及び装置（2920187），水晶体のエッチング加工法（3492933），極細管内壁面のコーティング方法およびコーティング装置（4621914），ソーワイヤ、ソーワイヤの製造方法、半導体インゴットの切断方法及びワイヤソー（4930974），極細長軸体へのコーティング方法および極細長軸体へのコーティング装置（4693120）