委員紹介

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東京大学大学院工学系研究科 マテリアル工学専攻

http://www.plasma.t.u-tokyo.ac.jp/

1. 超高速エピタキシ−技術開発：
   次世代薄膜単結晶型太陽電池の実現に向けて，シリコンエピタキシャル膜の高速堆積･高材料利用収率・高品質化の両立を目指す。
2. 高密度リチウムイオン電池材料創製：
   プラズマスプレー法を利用した高次複合ナノ粒子の高スループット製造技術の開発を進め，次世代リチウムイオン電池材料の創製に挑む。
3. メゾプラズマクラスター科学：
   熱プラズマと低圧プラズマの中間的な圧力領域にある非平衡プラズマと位置づけられるメゾプラズマと，その特徴の一つである特異クラスターダイナミクスの理解深化。

1. M. Kambara, A. Kitayama, K. Homma, T. Hideshima, K. Kaga, K-Y. Sheem, S. Ishida, T. Yoshida, “Nano-composite Si particle formation by plasma spraying for negative electrode of Li ion batteries”, J. Appl. Phys. 115 (2014) 143302.
2. L.W. Chen, Y. Shibuta, M. Kambara, T. Yoshida, “Molecular dynamics simulation of the role of hydrogenated Si clusters for fast rate mesoplasma epitaxy”, J. Phys. D: Appl. Phys. 46 (2013) 425302-1.
3. K. Iizuka, M. Kambara, T. Yoshida, “Highly sensitive SnO2 porous film gas sensors fabricated by plasma spray physical vapor deposition”, Sensor Actuat. B 173 (2012) 455.
4. A. Shinozawa, M. Kambara and T. Yoshida, “Feather-like structured YSZ coatings at fast rates by plasma spray physical vapor deposition”, J. Therm. Spray Technol. 19 (2009) 190.
5. M. Kambara, H. Yagi, M. Sawayanagi and T. Yoshida, “High rate epitaxy of silicon thick films by medium pressure plasma chemical vapor deposition”, J. Appl. Phys. 99 [7] (2006) 074901.
6. M. Kambara, N. Hari Babu, E. S. Sadki, J. R. Cooper, H. Minami, D. A. Cardwell, A. M. Campbell and I. H. Inoue, “High intergranular critical currents in metallic MgB2 superconductor”, Supercond. Sci. Technol. 14 (2001) L5.
7. M. Kambara, K. Uenishi, K. F. Kobayashi, “Nano-structured intermetallic compound TiAl obtained by crystallization of mechanically alloyed amorphous TiAl, and its subsequent grain growth”, J. Mater Sci. 35 [11] (2000) 2897.