研究会一覧
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第18回研究会
c－BN薄膜形成プロセス －成膜メカニズム・密着強度・内部応力－
平成4年10月5日(月)10月6日(火) ホテルニュー長崎
| プログラム |
| c－BN薄膜の諸特性及びその改良の試み |
| 日本工業大学 村川正夫、渡部修一、三宅正二郎 |
| 熱フィラメントCVD法によるBxN多結晶膜の作製条件 |
| 茨城大学工学部 斎藤秀俊 長岡技術科学大学 一ノ瀬幸雄 |
| プラズマCVD法による種々の基板へのe－BN薄膜形成 |
| 広島大学工学部 大坂之雄 |
| イオン蒸着薄膜形成法(IV－D法)によるc－BN薄膜形成 (別刷) |
| 日新電機(株)研究開発本部 西山哲、緒方潔 |
| イオンプレーティング法によるcBN薄膜形成 |
| (株)神戸製鋼所材料研究所 池田孜、佐藤俊樹、亀岡誠司 |
| イオンビーム蒸着によるcBN薄膜の構造と密着性 |
| 三菱重工業(株)基盤技術研究所 和田哲義 |
| レーザーアシステイドプラズムCVDによるcBNの成長とその機構 (別刷) |
| 無機材質研究所 小松正二郎、守吉佑介 |
| 薄膜の付着と内部応力 |
| 東京大学工学部 金原粲 |