研究会一覧
MEETINGS
第24回研究会 アモルファスシリコン作製プロセスにおける最近の話題
平成6年4月15日(金) 弘済会館
| プログラム |
| 希薄気体解析の半導体製造プロセスへの応用 |
| (株)日立製作所機械研究所 池川正人 |
| シランプラズマ中の活性反応種の検出と定量 |
| 名古屋大学工学部 後藤俊夫 |
| a－Si：H Film Growth Process and Control of the Defect Density in the Resulting Film |
| Electrotechnical Laboratory Gautam GANGULY and Akihisa MATSUDA |
| 超音波印加による膜成長表面反応の制御 |
| 東京工業大学工材研 角谷正友、川崎雅司、鯉沼秀臣 |
| 特殊化学反応種を用いた表面反応制御 |
| 東京工業大学 東正信、横井崇行、清水勇 |
| 高品質アモルファスシリコンTFT作製におけるプラズマ科学 (別刷) |
| 電子技術総合研究所 近藤道雄、松田彰久 |