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第75回研究会 ユビキタスネットワｰク社会を支えるプラズマナノプロセス技術
平成18年3月3日(金) 名古屋大学IB電子情報館 東棟2階 IB大講義室
| プログラム | |
| 13:00-13:05 | 委員長挨拶 |
| 京都大学 橘 邦英 | |
| 13:05-13:45 | 基調講演 最先端情報通信デバイスシステムを支えるナノプロセス技術 |
| 半導体MIRAI 廣瀬 全孝 | |
| 13:45-14:15 | 超高速,超低消費電力超伝導ナノデバイスシステムとプラズマプロセス |
| 名古屋大学 藤巻 朗 | |
| 14:15-14:45 | 超精細ナノ加工インテグレｰション技術 ～イオン・ラジカル制御ナノ加工と新ナノ構造体の導入～ |
| 東芝 大岩 徳久 | |
| 14:45-15:00 | 休憩 |
| 15:00-15:30 | ナノパタｰンへのプラズマダメｰジとその修復技術 |
| 半導体MIRAI 小野 哲郎 | |
| 15:30-16:00 | カｰボンナノチュｰブ技術によるボトムアップナノプロセスへの挑戦 |
| 富士通 粟野祐二 | |
| 16:00-16:30 | 原子層制御プラズマ堆積技術と先端量産ナノ製造装置の開発 |
| 東京エレクトロン 伊藤 仁 | |
| 16:30-17:00 | 超高速ナノ材料薄膜堆積の限界とそのブレｰクスルｰ |
| 九州大学 白谷 正治 | |
| 17:00-17:30 | 総合討論 |
| モデレｰタ 名古屋大学 堀 勝 | |