研究会一覧
MEETINGS
第112回研究会(153,154,131合同)
プラズマ材料科学に基づいた薄膜形成と新プロセスの創出
平成25年06月20日(木)名古屋大学/ES館ホｰル
| プログラム | |
| 12:50-13:00 | 挨拶 |
| 日本学術振興会第153委員会 委員長 松田 彰久 日本学術振興会第131委員会 委員長 財満 鎮明 日本学術振興会第154委員会 委員長 宮崎 誠一 |
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| 13:00-13:40 | プラズマ材料科学的アプロｰチによるa-SiO:H薄膜の構造制御 |
| 大阪大学 松田 彰久 | |
| 13:40-14:20 | 次世代太陽電池のための薄膜シリコンプラズマプロセスの制御 |
| 九州大学 白谷 正治 | |
| 14:20-15:00 | 高速イオン誘起ナノ界面制御によるグラフェンの形成と新デバイスプロセスへの展開 |
| 東北大学 畠山 力三 | |
| 15:00-15:15 | 休憩 |
| 15:15-15:55 | 先進プラズマを用いたバイオプロセスの新展開 |
| 静岡大学 永津 雅章 | |
| 15:55-16:35 | スパッタリングによるZnNOx膜の初期成長制御とグリｰンデバイスへの展開 |
| 九州大学 板垣 奈穂 | |
| 16:35-17:15 | IGZO膜の成膜について |
| (株) 半導体エネルギｰ研究所 大力 浩二,下村 明久 | |
| 17:15 | 閉会 |
| 17:30-19:00 | 交流会 |