研究会一覧
MEETINGS
学振153、131、147委員会
合同研究会
原子レベル成膜・低ダメージ加工技術
平成27年4月16日(木)、名古屋大学 野依記念学術交流館2Fホール
近年の電子デバイスやメモリ素子の開発では、高速度化・高密度化の要請に伴って特性ばらつきの許容範囲が益々低下し、素子の寸法精度をオングストロームオーダで制御する必要に迫られています。素子の面内および膜厚方向の寸法を厳密に制御するためには、薄膜の成長機構を把握した上で原子レベルで制御可能な堆積法を選択し、次元性や材料特性をいかんなく引き出すために化学結合の性質に照らした損傷の少ない方法で加工することが必須となります。このような背景から、学振131、147、153の3委員会では、薄膜、ナノ材料、プラズマ材料科学に関わる産学研究者が一堂に集まる機会を提供し、原子レベルの成膜ならびに低ダメージ加工技術に関する先進的研究報告を共有して、今後の材料・プロセス開発とモノ作りの方向性について多角的に議論できる研究会を企画しました
プログラム | |
13:00-13:05 | ご挨拶 財満 鎭明(名古屋大学, 薄膜第131委員会委員長) |
13:05-13:10 | ご挨拶 井上 光輝(豊橋技術科学大学, アモルファス・ナノ材料第147委員会委員長) |
13:10-13:15 | はじめに:企画意図の説明(担当委員) |
13:15-13:55 (40分) | 湯浅 基和(積水化学工業(株)P2事業推進部) 「大気圧プラズマプロセスの新展開~高速・ダメージレスプロセス~」 |
13:55-14:35 (40分) | 斧 高一(京都大学大学院 工学研究科) 「プラズマ微細加工における原子層レベルの表面荒れ形成機構とその制御方法」 |
14:35-15:15 (40分) | 豊田 紀章(兵庫県立大学大学院 工学研究科) 「ガスクラスターイオンビームによる金属薄膜エッチング・平坦化技術」 |
15:15-15:35 | 休憩 |
15:35-16:15 (40分) | 美山 遼(東京エレクトロン(株) 仙台テクノロジーセンター) 「中性粒子ビームを用いた遷移金属膜エッチング」 |
16:15-16:55 (40分) | 湯浅 新治(産業技術総合研究所 スピントロニクス研究センター) 「スピントロニクス応用のための材料・プロセス開発」 |
16:55-17:35 (40分) | 霜垣 幸浩(東京大学大学院 工学系研究科) 「ホットワイヤーALD法によるULSI用高品質配線薄膜の合成」 |
17:35-17:40 | ご挨拶 藤山 寛(長崎大学, プラズマ材料科学第153委員会委員長) |