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Microsoft Teamsによるオンライン開催

半導体プロセス，ガス分解，表面処理（窒化・酸化），オゾン合成，水処理などの様々なプラズマプロセスにおいて，各種ラジカルおよびイオンによる反応が重要な役割を担っている。本研究会では，各種プラズマプロセスでキーとなるラジカル・イオン類の計測技術についての解説をお願いし，反応過程に関して得られた知見や，プロセスの最適化にどのように利用できるかを紹介いただく。また，計測に必要とする装置やデータ，前提となる知識についても紹介いただき，他のプロセスへの展開可能性などについて議論する機会としたい。