研究会一覧
MEETINGS
(定例研究会)
第154回研究会
『プラズマプロセスの進化の⽅向性を探る
−プラズマプロセスのニーズとシーズ
』
開催日: | 2022年1⽉28⽇(⾦) |
開催形式: | オンサイト(JR 東京駅・丸の内北⼝より徒歩5分程度,丸の内北⼝ビル16階, フクラシア丸の内オアゾB会議室)とオンライン(Zoom)のハイフレックス形式 |
趣 旨: | トランジスタの発明から 70年経つ間に様々な材料の利⽤と,それに対応する加⼯技術が開発され,トランジスタの微細化・⾼集積化・⾼性能化が進んでいる。プラズマプロセスは,半導体デバイスの微細加⼯の分野で多⼤な役割を担っている重要な技術である。 本研究会では,最先端の半導体製造のために必要とされるニーズと,プラズマプロセスの研究開発シーズについて紹介頂くことで,プラズマ材料科学分野における様々な材料プロセス技術への適⽤の可能性に関して幅広く議論を⾏いたい。 |
開催通知PDF: | こちら (要ID、パスワード) |
プログラム(敬称略) | |
12:30〜12:55 | 総会 |
12:55〜13:05 | (休憩) |
13:05〜13:10 | 委員⻑挨拶 ⽇本学術振興会第153委員会 委員⻑ 渡辺 隆⾏ |
13:10〜13:15 | 趣旨説明 九州⼤学 ⽩⾕ 正治 |
13:15〜14:00 | (基礎講座)「半導体デバイス製造のためのプラズマエッチング技術」 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 ⾠⺒ 哲也 |
14:00〜14:40 | (基調招待講演)「産総研におけるポスト5G に向けた半導体プロセスのためのプラズマ技術の研究開発動向」 産業技術総合研究所 安藤 淳 |
14:40〜15:05 | (招待講演)「2次元物質の物理とデバイス応⽤」 物質・材料研究機構 中払 周 |
15:05〜15:15 | (休憩) |
15:15〜15:40 | (招待講演)「半導体製造業におけるプラズマプロセスの課題と最適化技術」 東京エレクトロン株式会社 川⼈ ⼤希 |
15:40〜16:05 | (招待講演)「ミニマルファブにおけるプラズマ技術〜新技術の R&D プ ラットフォーム,デバイスプロセス実施例と市場開拓に向けて〜」 横河ソリューションサービス株式会社 丸⼭ 智史 |
16:05〜16:50 | 総合討論 |
16:50〜17:10 | 企業紹介 (アルバック, 荏原製作所) |